硬鉻電鍍工藝不含氟，陰極效率高，深鍍能力好，成本低，性能穩(wěn)定。而且可產(chǎn)生硬度達(dá)到1000HV、0.1的微裂紋硬鉻。HVSS硬鉻電鍍工藝兼有傳統(tǒng)硫酸型電鍍液的優(yōu)良特性，只對鐵及鐵合金產(chǎn)生輕微腐蝕，且有良好的陰極電流效率，可達(dá)27%（傳統(tǒng)工藝只能依靠含氟的催化劑）�？蓮V泛應(yīng)用于耐磨鏡面工件以及印刷機滾筒等各個領(lǐng)域，并且可在各種基材上鍍出所需的厚度。

 

 

主要成分，工藝參數(shù)	****	范圍
溫度	55℃	42℃～60℃
陰極電流密度	50 A/d㎡	10～100A/d㎡
陽極電流密度	15 A/d㎡	5～30A/d㎡
電壓及整流器	依據(jù)情況不同，可分為5～15V，波紋小于5%
陽極攪拌	不需。應(yīng)盡量使用滾動攪拌
空氣攪拌	建議不用
過濾	從一個槽過濾到另一個槽，僅在鍍液反常時使用
鍍速	55 A/d㎡，55℃時，約為1μm/min
鍍液成分
鉻酐	240～320g/L   建議新開缸用到300克
硫酸：鉻酐	1.1～1.4%
密度（新開缸、鉻酐濃度為300g/L時）	1.215g/cm3
	25.5°Be

五、鍍液的補充與維護(hù)

1. 維護(hù)：

                 范圍

鉻酸 240 ~300 g/L

硫酸 1.1~ 1.4%   （與鉻酸的濃度有關(guān)）

 

2. 鍍液的補充：

如需添料，請在測量波美或分析后進(jìn)行。一般，每周需測一次波美。鍍液密度會在電鍍過程中下降，每添加大約1.5㎏鉻酸酐可使100升鍍液升高1°Be，每添加100公斤鉻酸酐需補加HVSS 8-10升。

正確調(diào)整硫酸根含量通過分析數(shù)據(jù)分步處理：

> 提高1克/升單位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析純硫酸（98%）

> 降低1克/升單位的硫酸根需要加2克/升碳酸鋇

鉻酸的分析：

試劑：

H₂SO₄                1:10

KI溶液               100g/L

淀粉溶液            20g/L

Na₂S₂O₃溶液      0.1N 

 

 

g/L鉻酸 = 硫代硫酸鈉的滴定體積（mL）× 16.7